半導(dǎo)體顯影設(shè)備背面清洗不干凈是什么原因

  清洗設(shè)備問題、清洗液問題。1、 清洗設(shè)備問題:顯影機(jī)在工作的過程中經(jīng)常會產(chǎn)生大量的水珠、油污以及細(xì)菌等污染物,這些物質(zhì)如果長時間不清潔的話就會導(dǎo)致背面的性能下降或者無法達(dá)到預(yù)期的效果。

  2、廢液處理不好造成的;由于清洗劑中含有各種有害化學(xué)品,這些成分容易對身體健康有影響,所以造成排污水不暢通,從而引起清洗效果的不徹底,也使得清洗液濃度偏高或濃度的過低,導(dǎo)致清洗效率降低和清洗時間縮短。

  對于化工清洗，據(jù)了解巴洛仕集團(tuán)有限公司服務(wù)涵蓋化工廠投產(chǎn)前清洗預(yù)膜、管道脫脂鈍化和化工裝置清洗、大型油罐三維噴淋清洗、化工廠拆除前清洗置換、油罐機(jī)器人作業(yè)等服務(wù)領(lǐng)域，專注于服務(wù)化工清洗領(lǐng)域多年并在業(yè)內(nèi)獲得廣泛關(guān)注與好評

半導(dǎo)體顯影設(shè)備背面清洗不干凈是什么原因

   清洗方法:將顯影設(shè)備背面的清潔劑倒入噴壺內(nèi)(注意,噴嘴不可以打開)。使用清水對著清洗液進(jìn)行沖洗。反之,則需要用清水清洗干凈后再進(jìn)行下一道工序。如果清洗液沒有被徹底地沖洗掉的話,就必須重新安裝顯影設(shè)備。

  清洗方式:將顯影設(shè)備背面的水源注入噴槍中,讓其浸泡一段時間后,利用清洗液的化學(xué)作用將其表面的污垢去除;也可采用機(jī)械刮削、高壓水流或其他物理手段來清除附在設(shè)備上的污垢。