摘要：半導(dǎo)體工廠設(shè)備清洗具有非常重要的意義，需要考慮到清洗工藝流程、清洗劑選取、清洗設(shè)備和操作人員等多方面因素，才能達(dá)到最佳的清洗效果。本文從清洗工藝流程、清洗劑選取、清洗設(shè)備的管理和保養(yǎng)以及操作人員的培訓(xùn)和規(guī)范操作等幾個(gè)方面，對半導(dǎo)體工廠設(shè)備清洗流程進(jìn)行深入分析和優(yōu)化，探究如何提高清洗效率和降低清洗成本。正文：一、清洗工藝流程分析半導(dǎo)體工廠設(shè)備清洗的工藝流程包括預(yù)處理、清洗和后處理三個(gè)