摘要半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備是一種集成化、高效、環(huán)保的清洗技術(shù)。該技術(shù)以氣相化學(xué)反應(yīng)為主要原理，通過高溫、真空等條件，將有機和無機污染物從半導(dǎo)體器件表面徹底去除。本文深入分析了半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備的原理、優(yōu)點、應(yīng)用等方面，為讀者提供了全面的背景信息和專業(yè)的技術(shù)分析。同時，引用了巴洛仕集團的化學(xué)清洗技術(shù)，為行業(yè)專家提供了更多