摘要：半導材料射頻離子清洗技術是一種在半導材料制造中廣泛應用的清洗技術。本文將從設備原理、應用及關鍵影響因素等4個方面進行深入介紹，帶領專業(yè)人士了解該技術的優(yōu)點、適用范圍及存在的一些問題。一、設備原理半導材料射頻離子清洗設備是一種利用高能離子轟擊半導材料表面改變其表面特性的設備?；竟ぷ髟硎窃谡婵窄h(huán)境下，通過離子轟擊將半導材料表面的雜質和氧化物等有害物質去除，從而提高材料表面的光電性能和成品